RubricaRubrica Cerca nel sitoCerca nel sito ModulisticaModulistica WebmailWebmail
Il Dipartimento sui social: Seguici su Facebook Seguici su Facebook Seguici su Youtube

Contenuti pagina [0] | Menù [1] | Copyright e credits [2]

Dipartimento di Fisica

Sei in »» » Laurea Triennale in Fisica » Tirocini Didattici

Deposizione e studio di film sottili

  1. Dati del tirocinio

    Soggetto ospitante: Università della Calabria

    Luogo: Laboratorio di Fisica Molecolare – Scattering ed Ellissometria, Cubo 33b, Piano 1

    Docente - Tutor accademico: Carlo Versace

    Contatto: carlo.versace@fis.unical.it

    Periodo: 1 febbraio/30 settembre 2017

    CFU: 6 CFU, corrispondenti a 150 ore di impegno totale

  2. Obiettivi formativi:

    Lo studente imparerà alcune delle tecniche più utilizzate per la deposizione di film sottili di diversi tipi e materiali e le tecniche sperimentali utili al loro studio. Saranno affrontate anche le tematiche inerenti alla loro applicazione in ottica, fotonica ed elettronica.

  3. Contenuti e programma:

    La ricerca nel campo dei film nanometrici sia sotto forma di monostrati che di multistrati è da tempo avviata nel laboratorio di Fisica Molecolare del Dipartimento di Fisica, perciò il programma di ricerca, ovvero i materiali, i metodi per la loro deposizione e lo studio dei film sottili con essi realizzati dipenderanno dal momento in cui lo studente si inserisce nel gruppo di ricerca.

    Attualmente sono realizzati, caratterizzati e studiati per le loro proprietà ottiche ed elettroniche film sottili di ossido di grafene (GO) e di multistrati di GO e film metallici o semiconduttori.

    Il GO viene depositato per elettroforesi, dip-coating o mediante una combinazione dei due metodi, ottenendo strati spessi qualche decina di nanometri partendo da una soluzione acquosa di fiocchi di GO. Gli strati inorganici sono invece ottenuti da magnetron sputtering di target di campioni puri di metalli o semiconduttori. Il substrato vetroso e ogni strato, prima di procedere alla deposizione dello strato successivo, vengono caratterizzati strutturalmente mediante AFM e SEM, la microanalisi in fluorescenza e lo scattering Raman sono impiegati per rilevare le specie atomiche e molecolari presente negli strati. La riflettometria a raggi X (XRR) ci permette di avere informazioni sullo spessore di ogni strato mentre l’ellissometria oltre a confermare i dati di XRR misura la funzione dielettrica dei film tra 0.4eV e 6.5eV.

    Un analizzatore di precisone d’impedenza HP4294A è utilizzato per l’analisi delle proprietà elettriche dei campioni.

Archivio